فصلنامه

---

زمینه و هدف: در این تحقیق سمیت نانوذرات اکسید روی (ZnO) و اکسید تیتانیوم (TiO₂) به عنوان دو نوع از پرکاربردترین نانوذرات مورد بررسی قرار گرفته است. نتایج این مطالعه می تواند به وضع استانداردها و قوانین زیست محیطی نانوذرات کمک کند. 
روش بررسی: غلظت های مختلف از دو نانوذره ZnO و TiO₂ به محیط کشت های نوترینت آگار اضافه شد. سپس باکتری های اشرشیا کلی و استافیلوکوک اورئوس با تعداد مشخص به محیط کشت اضافه شدند و میزان بازدارندگی رشد در مقایسه با نمونه شاهد تعیین شد. اطلاعات حاصل به کمک نرم افزار SPSS ver 16.0 و آزمون استاندارد پروبیت، آنالیز شده و غلظت موثر 50 درصد(EC₅₀ ) و غلظت بدون اثر بازدارنده (NOEC) در ارتباط با دو نوع نانوذره تعیین گردید.
یافته ها: طبق آزمایشات، EC₅₀ 24 ساعته نانو ZnO ، با استفاده از ا. کلای و ا. اورئوس به ترتیب mg/L 47/5 و mg/L 38/2 به دست آمد. EC₅₀ 24 ساعته نانوذرات TiO₂ با استفاده از ا. کلای و ا. اورئوس نیز به ترتیب mg/L 5366 و mg/L 3471 محاسبه شد. همچنین برای نانوذرات ZnO غلظت بدون اثر بازدارنده (NOEC) با استفاده از ا. کلای و ا. اورئوس به ترتیب 15/1 و mg/L 28/3 و برای نانوذرات اکسید تیتانیوم غلظت بدون اثر بازدارنده با استفاده از ا. کلای و ا. اورئوس به ترتیب 1937 و 1184 محاسبه شد.
نتیجه گیری: این مطالعه نشان داد که سمیت حاد نانوذرات اکسید روی به مراتب بیشتر از سمیت حاد نانوذرات اکسید تیتانیوم است. مقایسه نتایج این مطالعه با معیارهای ارایه شده توسط EPA نیز نشان می دهد که از نظر سمیت حاد، نانوذرات اکسید روی در رده مواد با سمیت متوسط و نانوذرات اکسید تیتانیوم در رده موادی که عملا غیر سمی هستند قرار می گیرد. بنابراین پیشنهاد حدود مجاز مواجهه و وضع استانداردهای دفع محیطی نانوذرات اکسیدروی از نظر سمیت حاد در مقایسه با نانوذرات اکسید تیتانیوم نیازمند مراقبت بیشتری است.

---

MicrosoftInternetExplorer4 زمینه و هدف: آنیلین ماده‌ای است که در صنایع شیمیایی و در فرایندهای مختلفی استفاده می گردد و به دلیل اثرات منفی روی محیط، روش‌های مختلفی جهت حذف این ماده مورد بررسی قرار گرفته است. در این مطالعه، کارایی فرایند فتوکاتالیستی نانوذرات اکسید روی در حذف آنیلین از پساب سنتتیک مورد مطالعه قرار گرفت.
روش بررسی: راکتور فتوکاتالیستی از جنس پلکسی گلاس و به حجم 5 لیتر که لامپ فرابنفش (20w.) در مرکز آن (داخل غلاف کوارتزی) بوده و نانوذرات اکسیدروی (g/L 5/0-2/0) وارد پساب سنتتیک حاوی آلاینده آنیلین با غلظت ppm.052 می‌گردید. پس از طی زمان‌‌ ماند30و90،60دقیقه، نمونه‌ها سانتریفوژ شده و محلول رویی توسط فیلتر µ.2/0 از جنس PTFE، فیلتر شد. جهت استخراج مواد آلی از نمونه و آنالیز آنها، از روش مایع ـ مایع و دستگاه گازکروماتوگرافی استفاده گردید.
یافته‌ها: نتایج نشان داد که فرایند فتوکاتالیستی اکسید روی می‌تواند به طور موثری، منجر به حذف آلاینده آنیلین از پساب گردد. راندمان حذف آنیلین در غلظت نانوذرات اکسیدروی برابر g/L 5/0  به مقدار کمتری نسبت به سایر غلظت‌ها افزایش نشان می‌داد و آزمون آماری (ANOVA) نشان از عدم وجود اختلاف معنادار بین راندمان حذف آنیلین در غلظت‌های مختلف نانوذرات داشت. در pH قلیایی، بیشترین راندمان حذف آنیلین در زمان ماند 90 دقیقه و غلظت نانوذرات g/L 5/0 به میزان 3/76% به دست آمد.
نتیجه‌گیری: در نهایت، می‌توان نتیجه‌گیری نمود که فرایند فتوکاتالیستی نانوذرات اکسیدروی برای حذف آلاینده آنیلین از پساب مناسب است.