عماد دهقانی فرد، احمد جنیدی جعفری، روشنک رضایی کلانتری، میترا غلامی، علی اسرافیلی،
دوره 5، شماره 2 - ( 7-1391 )
MicrosoftInternetExplorer4
زمینه و هدف: آنیلین مادهای است که در صنایع شیمیایی
و در فرایندهای مختلفی استفاده می گردد و به دلیل اثرات منفی روی محیط، روشهای
مختلفی جهت حذف این ماده مورد بررسی قرار گرفته است. در این مطالعه، کارایی فرایند
فتوکاتالیستی نانوذرات اکسید روی در حذف آنیلین از پساب سنتتیک مورد مطالعه قرار
گرفت.
روش بررسی: راکتور فتوکاتالیستی از جنس پلکسی گلاس و
به حجم 5 لیتر که لامپ فرابنفش (20w.) در مرکز آن (داخل غلاف کوارتزی) بوده و
نانوذرات اکسیدروی (g/L 5/0-2/0) وارد
پساب سنتتیک حاوی آلاینده آنیلین با غلظت ppm.052 میگردید. پس از طی زمان ماند30و90،60دقیقه، نمونهها
سانتریفوژ شده و محلول رویی توسط فیلتر µ.2/0 از جنس PTFE، فیلتر شد. جهت
استخراج مواد آلی از نمونه و آنالیز آنها، از روش مایع ـ مایع و دستگاه
گازکروماتوگرافی استفاده گردید.
یافتهها: نتایج نشان داد که فرایند فتوکاتالیستی
اکسید روی میتواند به طور موثری، منجر به حذف آلاینده آنیلین از پساب گردد.
راندمان حذف آنیلین در غلظت نانوذرات اکسیدروی برابر g/L 5/0 به مقدار
کمتری نسبت به سایر غلظتها افزایش نشان میداد و آزمون آماری (ANOVA) نشان از عدم وجود اختلاف معنادار
بین راندمان حذف آنیلین در غلظتهای مختلف نانوذرات داشت. در pH قلیایی، بیشترین راندمان حذف آنیلین
در زمان ماند 90 دقیقه و غلظت نانوذرات g/L 5/0 به میزان 3/76% به دست آمد.
نتیجهگیری: در نهایت، میتوان نتیجهگیری نمود که
فرایند فتوکاتالیستی نانوذرات اکسیدروی برای حذف آلاینده آنیلین از پساب مناسب
است.
