3 نتیجه برای فوتوکاتالیست
احمد خدادادی، حسین گنجی دوست، حسین ایجادپناه ساروی،
دوره 4، شماره 4 - ( 12-1390 )
چکیده
زمینه وهدف: حذف نفتالین که کاربرد گستردهای در صنایع شیمیایی دارد به دلیل سخت تجزیه پذیر بودن ترکیبات آروماتیک با فرایندهای متداول تصفیه امکان پذیر نیست. هدف از این تحقیق حذف نفتالین از محلولهای آبی به روش اکسیداسیون پیشرفته با استفاده از نانو ذرات دی اکسید تیتانیوم تثبیت شده بر روی کربن فعال می باشد.
روش بررسی: در این مطالعه برای تثبیت نانو ذرات TiO2 بر روی زغال فعال، پس از تهیه سوسپانسیون نانو TiO2 آن را با دانههای زغال اختلاط داده و مدت 30 دقیقه در دستگاه ماکروویو با شدت 180 وات قرار داده شد. راکتور فوتوکاتالیستی شامل بشر 1 لیتری با شرایط اختلاط کامل و هوادهی، تحت تابش پرتوUV-C 20 وات بوده است.
یافته ها: نتایج نشان دادند که فرایند فوتوکاتالیستی UV/TiO2 با کاهش غلظت نفتالین بازدهی حذف افزایش پیدا نموده به طوری در غلظتppm 100 مقدار حذف نفتالین بعد از 3 ساعت برابر با 92 درصد است نتایج در صورتی که در غلظت ppm 25 تقریبا در 2 ساعت بازدهی حذف کامل است.
نتیجه گیری: فرایند UV/TiO2 به عنوان یکی از روشهای اکسیداسیون پیشرفته است که پایداری و راندمان بالا از امتیازات آن به شمار میآید. در 11 =pH بیشترین بازدهی حذف نفتالین صورت گرفته و بعد از مدت 5/1 ساعت غلظت نفتالین ازppm 100 به ppm 10 رسید، درصد حذف نفتالین با استفاده از این روش بالغ بر 90 درصد بوده است.
ناهید رشتچی، سهیل سبحان اردکانی، مهرداد چراغی، امیررضا گودرزی، بهاره لرستانی،
دوره 15، شماره 2 - ( 5-1401 )
چکیده
زمینه و هدف: آموکسیسیلین یک آنتیبیوتیک تجاری رایج است که بهدلیل مقاومت بالا در برابر باکتری ها و طیف گسترده ای از میکروارگانیسم ها استفاده می شود و حضور باقیمانده آن در فاضلاب صنایع دارویی و پساب بیمارستانی با ایجاد بوی نامطبوع، اختلالات پوستی و مقاومت میکروبی در موجودات بیماری زا، می تواند منجر به مرگ میکروارگانیسم های موثر در تصفیه فاضلاب شود. از اینرو، این مطالعه با هدف بررسی کارایی حذف فوتوکاتالیستی آموکسیسیلین توسط نانوکامپوزیت گرافن اکساید مغناطیسی عامل دار شده با دی اکسید سریم از محلول آبی انجام شد.
روش بررسی: در این پژوهش توصیفی، نانوکامپوزیت گرافن اکساید مغناطیسی عامل دار شده با دی اکسید سریم سنتز و به عنوان فوتوکاتالیست برای حذف آموکسیسیلین استفاده شد. خصوصیات ظاهری نانوکامپوزیت با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)، دستگاه پراش پرتو ایکس (XRD)، آنالیز طیفسنجی تفکیک انرژی (EDX)، طیفسنجی مادون قرمز فوریه (FTIR) و آنالیز خاصیت مغناطیسی (VSM) بررسی شد. همچنین، اثر متغیرهای pH (3-11)، دوز فوتوکاتالیست (g0/04-0/006)، زمان تماس ( min0-150) و دما (°C 25-55) بر کارایی حذف آموکسیسیلین بررسی شد.
یافته ها: نتایج نشان داد که بیشینه کارایی حذف آموکسیسیلین در pH برابر با 10، دوز فوتوکاتالیست برابر با g 0/02، زمان تماس برابر با min 90 و دمای واکنش برابر با °C 25 حاصل شد.
نتیجه گیری: نانوکامپوزیت گرافن اکساید مغناطیسی عامل دار شده با دی اکسید سریم می تواند به عنوان یک فوتوکاتالیست موثر و در دسترس برای حذف آموکسیسیلین از پساب های صنعتی تحت نور UV مورد استفاده قرار گیرد.
سیدخبات نینوا، بهاره لرستانی، مهرداد چراغی، سهیل سبحان اردکانی، بهزاد شاهمرادی،
دوره 17، شماره 3 - ( 9-1403 )
چکیده
زمینه و هدف: فنیتروتیون یکی از سموم فسفره است که از راه های مختلف از جمله توسط فاضلاب های صنعتی و زهآبهای کشاورزی به منابع آبی وارد می شود. با توجه به اینکه این سم بهدلیل ایجاد کمپلکس های قوی، غیرقابل تجزیه زیستی است، حذف آن با روش های اکسیداسیون پیشرفته ضروری است. لذا، این مطالعه با هدف بررسی کارایی حذف سم فنیتروتیون توسط نانوکامپوزیت گرافن اکساید مغناطیسی عامل دار شده با دی اکسید سریم (GO@Fe3O4@CeO2) از محلول آبی انجام شد.
روش بررسی: در این پژوهش، نانوکامپوزیت GO@Fe3O4@CeO2 سنتز و به عنوان فتوکاتالیست برای حذف فنیتروتیون مورد استفاده قرار گرفت. خصوصیات ظاهری نانوکامپوزیت با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)، دستگاه پراش پرتو ایکس (XRD)، آنالیز طیف سنجی تفکیک انرژی (EDX)، طیف سنجی مادون قرمز فوریه (FT-IR) و آنالیز خاصیت مغناطیسی (VSM) بررسی شد. همچنین، اثر متغیرهای pH (2-9)، غلظت فتوکاتالیست ( mg/L10-40) و زمان تماس ( min0-90) بر کارایی حذف فنیتروتیون بررسی شد.
یافته ها: نتایج نشان داد که با افزایش زمان تماس تا min 60 و غلظت فتوکاتالیست تا mg/L 20، کارایی حذف فنیتروتیون افزایش یافت. از طرفی، بیشینه نرخ حذف فنیتروتیون در 4 = pH ثبت شد. نتایج بررسی سینتیک فرآیند فوتوکاتالیستی حذف فنیتروتیون توسط GO@Fe3O4@CeO2 نشان داد که فرآیند از سینتیک مرتبه اول پیروی کرده است.
نتیجه گیری: نانوکامپوزیت GO@Fe3O4@CeO2 می تواند به عنوان یک فوتوکاتالیست موثر و در دسترس برای حذف فنیتروتیون از پساب های صنعتی تحت تابش فرابنفش مورد استفاده قرار گیرد.